信息量很大!進(jìn)度比預(yù)想要快:國產(chǎn)光刻機(jī)為何最終能成?
文/王新喜
日前,新華網(wǎng)罕見的發(fā)布了一篇《國產(chǎn)光刻機(jī)如何突圍?》的文章。在近兩年來,國產(chǎn)光刻機(jī)一直在低調(diào)的發(fā)展,對相關(guān)的進(jìn)展有所保密,各種小道消息不斷,但官方官宣的消息很少,而新華網(wǎng)這種權(quán)威媒體親自發(fā)布光刻機(jī)進(jìn)展的消息更是罕見。從目前的進(jìn)度來看,國產(chǎn)光刻機(jī)比預(yù)想要快,留給ASML的時間不多了。
(資料圖片僅供參考)
信息量很大,光刻機(jī)關(guān)鍵環(huán)節(jié)或正在突破
從目前這篇文章來看,信息量很大。文章指出,這則消息透露,上海微電子正致力于研發(fā)28納米浸沒式光刻機(jī),預(yù)計在2023年年底將國產(chǎn)第一臺SSA/800-10W光刻機(jī)設(shè)備交付市場。而此前華為的一項最新專利,在極紫外光刻機(jī)核心技術(shù)上取得突破性進(jìn)展。
此前,國家知識產(chǎn)權(quán)局公布了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”,這標(biāo)志著華為在極紫外線光刻機(jī)核心技術(shù)上取得突破性進(jìn)展。
怎么看待這則消息了,首先,這是官媒公布的消息,信源肯定靠譜。其次,上海微電子可以生產(chǎn)28納米光刻機(jī),意味著我們解決了從0到1的問題;華為的“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”,則可以讓我們在極紫外線光刻機(jī)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從1到100的發(fā)展。
從關(guān)鍵信息來看,是純國產(chǎn)28nm沉浸式光刻機(jī)將于年底交付。事實上,不少人可能不清楚,28nm光刻機(jī)和28nm芯片是不同的,28nm光刻機(jī)能造出的芯片遠(yuǎn)遠(yuǎn)不止28nm。芯片是芯片,光刻機(jī)是光刻機(jī),對于28nm光刻機(jī)而言,最高是可以制造出7nm芯片的。
總的來說,目前該消息的發(fā)布,信息量很大,關(guān)鍵環(huán)節(jié)的突破可能只剩時間問題了。畢竟,中國國產(chǎn)光刻機(jī)的消息其實就和過去諸多卡脖子技術(shù)的突破一樣,外界永遠(yuǎn)不知道進(jìn)度,等知道的那一天,國產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)大規(guī)模量產(chǎn)了了。
高端光刻機(jī)還不宜樂觀,卡脖子的地方還有兩處
光刻機(jī)研發(fā)制造難度,業(yè)內(nèi)均知。
荷蘭ASML的光刻機(jī)是集合了全球頂尖公司的產(chǎn)品,一臺光刻機(jī)有10萬多個零件,涉及的每一步都需要最先進(jìn)的工藝與零件。ASML公司的EUV光刻機(jī),需要頂級的鏡頭和光源以及極致的機(jī)械精度與復(fù)合材料,光源采用美國的Cymer,透鏡是德國的蔡司,復(fù)合材料是來自日本等等。光刻機(jī)的激光,鏡頭,雙工臺,都是精密儀器的頂尖水平。
在過去的一個共識是,光刻機(jī)在全球沒有一個國家能單獨(dú)造出來,它是集合了全球的頂尖科技的產(chǎn)物。業(yè)界有形象的比喻,用光在晶圓上畫圖,相當(dāng)于兩架客機(jī)齊頭并進(jìn),一架機(jī)翼上掛一把刀,另一架飛機(jī)上粘一顆米粒,用刀在米粒上刻字。
但如果說這世界上選一個國家去單獨(dú)攻克這個難題,也只能是中國。
市場需求擺在這里,產(chǎn)業(yè)鏈就有足夠的動力,而現(xiàn)有的國產(chǎn)替代的產(chǎn)業(yè)集群也正在起來。包括科技公司,還有科研院所,高等院校,知識產(chǎn)權(quán)方面的專業(yè)機(jī)構(gòu)等等。
從國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈公司方面,做光刻機(jī)核心組件的公司已經(jīng)基本成型,做光源系統(tǒng),做物鏡系統(tǒng)的,做曝光光學(xué)系統(tǒng)的,做雙工作臺的,做浸沒系統(tǒng)的以及包括光刻膠,光刻氣體,光掩模版,光刻機(jī)缺陷檢測設(shè)備,涂膠顯影設(shè)備等,都有相關(guān)的公司與產(chǎn)業(yè)分布。
而根據(jù)新華網(wǎng)報道,國內(nèi)多家A股上市公司已經(jīng)進(jìn)入到光刻機(jī)全球產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)之中,包括光刻機(jī)光源系統(tǒng)廠商福晶科技,物鏡系統(tǒng)廠商奧普光電,涂膠顯影廠商芯源微、富創(chuàng)精密,光掩膜版廠商清溢光電、華潤微,缺陷檢測廠商精測電子,光刻膠廠商南大光電、容大感光,光刻氣體廠商雅克科技、華特氣體等。
不過,我們還不宜過于樂觀,目前還存在卡脖子的地方。
根據(jù)新華社的報道,記者調(diào)研的企業(yè)稱:“卡脖子”的難點(diǎn)主要在兩處:一是光源,光刻機(jī)要求體系小、功率高而穩(wěn)定的光源;二是鏡片,為了讓光線能夠精確地照射到硅片上刻畫出微小的圖案,需要一系列高精度和高光滑度的鏡片來聚焦和校準(zhǔn)光線。
但是難點(diǎn)在一點(diǎn)點(diǎn)攻克。上海微電子副董事長賀榮明在受訪時表示:“2002年,我國專家出國考察時,對方工程師說,哪怕把所有圖紙都給你們,你們也未必能做出光刻機(jī)。”回國后,賀榮明帶領(lǐng)團(tuán)隊夜以繼日攻關(guān),目前,上海微電子已可量產(chǎn)90納米分辨率的SSX600系列光刻機(jī),28納米分辨率的光刻機(jī)也有望取得突破。
據(jù)傳上微的SSA800光刻機(jī)類似于阿斯麥的DUV2000i,但指標(biāo)要比2000i高些,通過工藝優(yōu)化可以做到7nm集成電路制程。已經(jīng)跑線一年了,從定型看差不多年底會批量生產(chǎn)。
進(jìn)度比預(yù)想的快,荷蘭要在功勞簿上添一筆
根據(jù)浙商證券研報表示,當(dāng)前我國在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國產(chǎn)化率分別達(dá)到34%、40%、90%;在涂膠顯影、刻蝕、真空鍍膜的國產(chǎn)化率達(dá)到10%至30%;在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入的國產(chǎn)化率暫時低于5%。
在在目前來看,國產(chǎn)化率在逐步提升,這需要時間逐步實現(xiàn)國產(chǎn)替代,目前這個節(jié)奏也在加快。國產(chǎn)DUV光刻機(jī)進(jìn)展還處于保密階段,但是國產(chǎn)光刻機(jī)很多關(guān)鍵的部分都已經(jīng)取得了技術(shù)突破這是沒有疑問的,在目前,把量產(chǎn)時間都放出來了,意味著組裝成整機(jī),量產(chǎn)的時間也有望提前了。
以往的歷史經(jīng)驗告訴我們,一旦中國在某項技術(shù)領(lǐng)域取得突破,國外品牌會開始加大出貨,甚至通過市場降價傾銷的方式來限制國產(chǎn)品牌研發(fā)投入與產(chǎn)品競爭力。
正如某業(yè)內(nèi)人士表示,光刻機(jī)那么復(fù)雜的東西,做出來的產(chǎn)品一年全行業(yè)銷售額還不如小米一家賣手機(jī)銷售額的一半。等你萬一做出來了,ASML就可以降價打死你,你也就沒有研發(fā)下一代產(chǎn)品的本錢了。因此,在過去市場開放的年代,光刻機(jī)以前其實連試錯的機(jī)會都沒有。資本是逐利的,誰砸錢給你玩這個?但就是這么巧,美國硬是給國內(nèi)企業(yè)創(chuàng)造了這么個賺錢的機(jī)會。ASML沒法來競爭了。
而目前的這個進(jìn)度,也已經(jīng)在荷蘭的預(yù)料之外,比如說,2022年同興達(dá)還在說光刻機(jī)要用日本的, 結(jié)果23年實際搬進(jìn)來的是上海微電子的光刻機(jī),當(dāng)然是微米級的。
但另據(jù)光刻機(jī)行業(yè)人士透露,納米級早已研制出來了,只不過達(dá)不到10nm以內(nèi)。目前還需要時間,比如從驗收到真正商業(yè)化還需要3-5年;好消息是DUV目前看來只剩時間問題了。而且EUV和DUV是同步研發(fā),兩者的時間間隔可能比預(yù)期短,就像原子彈和氫彈。
從過往諸多技術(shù)的攻克與自主化替代來看,國內(nèi)尖端技術(shù)領(lǐng)域的歷史性的機(jī)遇,往往都是外部壓力推著我們完成的。
從目前來看,這兩年荷蘭的一系列半導(dǎo)體設(shè)備出口管制新規(guī),限制部分先進(jìn)光刻機(jī)設(shè)備出口,正在加快我國先進(jìn)制程設(shè)備、零部件和材料的國產(chǎn)化步伐,國產(chǎn)光刻機(jī)的攻克,荷蘭的功勞要添上一筆。
從近期來看,美國要求阿斯麥不許給國內(nèi)企業(yè)提供售后和保養(yǎng),國內(nèi)的反擊措施包括斷供鎵和鍺,另一方面是部分企業(yè)要求退貨,如果退了一方面國產(chǎn)光刻機(jī)順理成章拿回市場,阿斯麥國內(nèi)的企業(yè)將面臨巨大營收壓力。
一場輸不起的戰(zhàn)爭,中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)為何能成?
國內(nèi)的芯片產(chǎn)業(yè)、光刻機(jī)產(chǎn)業(yè),外界的環(huán)境與態(tài)度都在發(fā)生微妙的變化,也不應(yīng)該過度樂觀,不管外界是封鎖還是解禁,都要按照自己的節(jié)奏去布局。
光刻機(jī)有10萬多零件,這就是個系統(tǒng)工程,各方分工協(xié)作,由點(diǎn)及面,可以產(chǎn)生巨大連鎖效應(yīng)。比如哈工大的激光干涉儀,可以用來檢測光刻機(jī)的精度和穩(wěn)定性。也可以用來測量微細(xì)結(jié)構(gòu)的尺寸和形狀,如微電子器件、光學(xué)元件等,還可以應(yīng)用于其他領(lǐng)域。
因此,光刻機(jī)的突破的意義不僅僅在于應(yīng)用于消費(fèi)電子領(lǐng)域,還可以應(yīng)用到光學(xué)儀器、精密機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)等。對國內(nèi)的眾多行業(yè)的技術(shù)突破都有重大意義,它是一個鏈?zhǔn)椒磻?yīng)的突破,帶動的是眾多產(chǎn)業(yè)的突圍與升級。
中國人能把高鐵干到4萬公里,安全可靠,性能領(lǐng)先,除了中國哪個國家現(xiàn)在能做到?中國能在他國封鎖技術(shù)的情況下,把盾構(gòu)機(jī)做到全球第一,能把空間站送上太空安全運(yùn)行,能建成世界上最大的水力發(fā)電站,并且能保證安全運(yùn)行這些巨型高科技設(shè)備,這世界上哪個國家能做到?
中國單獨(dú)把光伏產(chǎn)業(yè)做到世界第一,在電動汽車上把發(fā)展了上百年的燃油車干到被面臨淘汰的危險境地,除了中國又有哪個國家單獨(dú)做到?
光刻機(jī)是集合了全球的頂尖科技的產(chǎn)物,但同樣不代表中國不能做到。因為很多的事情,全球沒有任何一個國家能做到但中國做到了,只要中國集全國之力,下定決心去做一件事,過去就沒有做不到的,而且光刻機(jī)這種設(shè)備不制裁永遠(yuǎn)沒機(jī)會國產(chǎn)替代。但目前外部恰恰創(chuàng)造了這樣的機(jī)會。
光刻機(jī)作為一個成熟的機(jī)械設(shè)備,有非常廣大的市場,對于中國的眾多產(chǎn)業(yè)的升級與安全有重大意義,中國必然需要去攻克,如果是必然需要去攻克的項目,中國在過去眾多卡脖子的項目上都已經(jīng)攻克下來了。光刻機(jī)的突破只是國內(nèi)眾多產(chǎn)業(yè)升級過程的中的必然結(jié)果。
中國的進(jìn)度之所以比預(yù)想中快,而且很可能就在這幾年取得成功,在于國內(nèi)的制造業(yè)全產(chǎn)業(yè)鏈的布局對尖端設(shè)備的制造與研發(fā)有推動作用,中國的制造業(yè)產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢是其他任何國家所沒有的,國人工作的效率是其他國家的3~5倍!成本比其他國家低50%以上。因此其他國家需要多國合力做成的事情,中國一國也有可能做成。
尤其在中國舉國體制下要攻克的項目下,又能做到大量資金的持續(xù)投入,外部打壓又形成了自主攻克的共識,有最大的消費(fèi)電子市場作為支撐,并在吸引全球人才、資本以及國內(nèi)外大量理工科學(xué)生進(jìn)入該行業(yè),從目前的進(jìn)度與節(jié)奏來看,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的突破差的只是時間。
《芯片戰(zhàn)爭》這本書很早就說過,這真是一場我們輸不起的“戰(zhàn)爭”,但從目前來看,我們最終還是能贏。這個結(jié)果,3~5年可能就會見分曉。
作者:王新喜 TMT資深評論人 本文未經(jīng)許可謝絕轉(zhuǎn)載
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